单个金属离子就可能导致一颗芯片的报废，这种现象常发生在半导体芯片的生产过程中。金属离子和杂质微粒物可以损坏复杂和高度集成的电路，一般认为，1/4线宽的杂质分子可以造成集成电路断丝、短路等物理性故障，1/10线宽的杂质分子将产生腐蚀、漏电等化学故障。所以说一颗性能卓越的芯片很大程度上依赖于芯片生产过程中对杂质离子、微粒物控制在极端低的水平。国际芯片生产巨头已经开始了28nm、14nm、7nm的先进制程，甚至在未来的数年内将达到2~3nm，这将对芯片生产设备、电子材料提出极为严苛的要求。

湿电子化学品是半导体行业不可或缺的关键性材料，广泛应用于超大规模集成电路、高清晰液晶面板的制造、太阳能电池硅片制备等微电子工业中。它主要起到清洗和蚀刻两大功效，达到清除晶圆等表面有机污染物、降低金属杂质残留物为目的。因而超净、高纯是湿电子化学品本身好基本的要求。为了衡量不同化学品的超净和高纯的程度，SEMI（国际半导体化学试剂标准化委员会）专门制定了规范超净高纯试剂的国际统一标准——SEMI标准。SEMI国际标准的关键性指标包含单项金属离子、单项阴离子、颗粒数等：

按照SEMI标准和微电子生产制造工艺要求，G1主要用于光伏太阳能电池领域，G2和G3更多应用于液晶面板等领域。而先进制程的高端芯片的生产，G3以下的化学品已经难以满足其要求，需要达到PPT级别（G4或者G5）。这对湿电子化学品的生产工艺和生产设备提出了极高的要求。

湿电子化学品主要包括过氧化氢、氢氟酸、硫酸、磷酸、盐酸、硝酸、氢氧化氨等强腐蚀性化学品。因而湿法化学品生产中除超净、高纯以外，防腐蚀性能也是湿电子化学品对生产设备的关键要求之一。具有超纯净度、卓越防腐性能的PFA材料是生产高端湿电子化学品生产设备材料的不二之选。Richter是全球PFA内衬泵阀的先行者和领导者，内衬泵阀的生产超过了六十年的历史。过去几十年中，随着我们全球性的忠实用户，如BASF、Merck、Solvay等的产品进入了湿电子化学品生产领域。凭借先进的生产工艺和对行业的深度了解，也为中国半导体材料工业的发展做出了应有的贡献。Richter内衬泵阀已大量使用于苏州晶瑞过氧化氢、无锡三开四甲基氢氧化铵等高等级湿法化学品的纯化生产中，据悉，其产品金属离子已低于50ppt。迄今，已有数千台Richter泵阀安装于国内先进的湿法化学品生产企业中，如浙江凯圣(电子级氢氟酸)、山东滨化（电子级氢氟酸）、江苏达诺尔（电子级氨水）、湖北兴福（电子级磷酸、显影液）、合肥格林达（剥离液、显影液）等。

其中好具代表性的产品是Richter全氟塑料PFA衬里磁力驱动泵。Richter磁力泵数十年的安全、可靠运行奠定了我们的市场地位，已是BASF、Bayer、万华等国际巨头相关设备的好 供应商。产品同时具有以下优点：

Richter内衬磁力泵为气密级设计，高性能、无接触的磁力传动技术淘汰了传统的动态密封，保证了完全无泄漏和大气的完全隔离。

超纯PFA内衬材料保证了半导体工业对纯净度的极致要求，衬里厚度超5mm。

内部平面轴承为纯SSIC材料，由纯SIC粉末在超2000摄氏度高温烧结而成，具有高致密性、超强硬度、高抗磨蚀性、优良的防腐性能，其硬度远超陶瓷，且导热性能为陶瓷材料的3倍以上，有别于反应烧结工艺，不存在游离的Si元素。

Richter特有的防干运转技术也使得短时的干运转不会对泵造成损坏。

针对半导体行业的特点及丰富经验，Richter对半导体高纯应用产品采用全过程洁净控制工艺，超纯清洗、洁净室安装、防尘包装等。超净、高纯，Richter将一如既往用我们的高品质产品